硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究

定　　价：35 元

丛书名：新材料研究系列丛书

• 作者：杜文汉 著
• 出版时间：2018/12/1
• ISBN：9787568410304
• 出 版 社：江苏大学出版社

• 中图法分类：O48 
• 页码：123
• 纸张：胶版纸
• 版次：1
• 开本：32开

内容简介

　　借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有 力工具，《硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究》对Sr／Si体系进行了深入的研究，主要 分为以下3个部分：（1）第一部分：Si（100）衬底上的 Sr／Si再构；（2）第二部分：Si（111）衬底上的Sr／Si 再构；（3）第三部分：超薄SrTiO3膜的高温晶化。