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薄膜真空沉积中的等离子体探测方法与技术 
定 价：78 元
9 7 6 8 9 7 9 0 1 3 5 0 2 读者对象:本书对于从事薄膜真空沉积、相关精密仪器制造方面的专业研究者具有极高的参考价值。另一方面，该书可以用作应用物理、材料科学与工程、精密仪器制造等方面的参考书。
低温等离子体被广泛应用于脉冲激光沉积、磁控溅射、等离子体增强化学气相沉积等现代半导体薄膜真空沉积技术中，并承担着薄膜组分物质输运、薄膜形核与生长动力学调控等关键性角色。由于等离子体性质是联系薄膜真空沉积条件与沉积性能的关键性纽带，以对等离子体性质的表征与探测为突破口并建立其与薄膜沉积条件和性能之间的基础关系，有助于从理论角度为薄膜沉积条件的设计与动力学过程优化提供依据。本书结合作者的长期相关研究系统介绍了低温等离子体的常用探测方法；重点结合脉冲激光沉积实例对等离子体与背景气体间复杂的物理碰撞与化学反应，以及对薄膜沉积的基础性影响关系作详细介绍。
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